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Fujifilm XF 16-55mm f/2.8 R LM WR
FUJINON XF16-55mm F2.8 R LM WR è uno zoom standard resistente agli agenti atmosferici, con una luminosità costante pari a F2.8 per tutte lunghezze focali che, nel formato equivalente al 35mm, vanno da un grandangolo 24mm fino a un medio teleobiettivo da 84mm. Questo nuovo obiettivo, quindi, consente di ottenere immagini nitide alla massima apertura a qualsiasi lunghezza focale. L’avanzato progetto ottico del nuovo XF16-55mm controlla le diverse forme di aberrazione per garantire nitidezza da bordo a bordo, su tutta la lunghezza focale.
L’impiego della tecnologia di rivestimento Nano-GI*1 (Gradient Index), di recente sviluppo, inibisce efficacemente la creazione di immagini fantasma e riflessi, producendo fotografie della massima nitidezza. Questo pratico obiettivo zoom standard si adatta a un’ampia gamma di situazioni fotografiche, grazie alla focale grandangolare da 24mm, perfetta per le riprese paesaggistiche, e un medio teleobiettivo da 84mm ideale per la ritrattistica. L’obiettivo XF16-55mm è mosso da un motore lineare che consente facili riprese, grazie a un autofocus rapido e silenzioso. In grado di resistere a difficili situazioni atmosferiche e alla polvere, l’obiettivo può funzionare a temperature fino a -10°C e se utilizzato con la fotocamera mirrorless Fujifilm X-T1, consente di ottenere un sistema totalmente resistente agli agenti atmosferici. Progetto ottico per ottenere la massima qualità dell'immagine da un obiettivo zoom standard Per ottenere la massima qualità dell’immagine, il luminoso zoom standard con F2.8 su tutta la lunghezza focale, è costituito da 17 elementi in 12 gruppi.
Per il controllo delle aberrazioni sferiche e delle distorsioni sono presenti tre lenti asferiche, mentre tre lenti in cristallo ED riducono le aberrazioni cromatiche laterali (grandangolo) e le aberrazioni cromatiche assiali (teleobiettivo), ottenendo così un’elevata nitidezza da bordo a bordo sull’intera gamma di lunghezze focali. L’applicazione dell’esclusivo rivestimento HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) di Fujifilm su tutte le superfici dell’obiettivo assicura il controllo di immagini fantasma per garantire immagini chiare e nitide. Utilizzando la tecnologia di rivestimento Nano-GI di recente sviluppo, che modifica l’indice di rifrazione tra vetro e aria, le immagini fantasma sono efficacemente ridotte quando la luce incide in diagonale. L’otturatore, costituito da nove lamelle arrotondate, crea un morbido e “rotondo” effetto bokeh. L’eliminazione dell’aberrazione sferica contribuisce a produrre uno splendido effetto bokeh frontale e posteriore.
La combinazione di quest’ottica con il corpo di una fotocamera della serie X*2 dotata di tecnologia Lens Modulation Optimiser*3 (LMO), migliora ulteriormente le performance dell’obiettivo. LMO corregge la diffrazione*4 per produrre immagini nitide da bordo a bordo e creare un realistico effetto tridimensionale, anche a ridotte aperture del diaframma Motore lineare autofocus rapido e silenzioso Il sistema di messa a fuoco interno (Inner Focusing System*5) assicura un AF ad alta velocità. La riduzione del peso delle lenti per la messa a fuoco e l’impiego del “Twin Linear Motor” (doppio motore lineare), rendono possibile un autofocus rapido e silenzioso. Utilizzando questo obiettivo con un corpo macchina della serie X*2 che offre il Phase Detection AF (autofocus a rivelamento di fase), la maggiore velocità AF, pari a 0,06 secondi, renderà confortevole ogni sessione fotografica. Il ridotto rumore dell'otturatore, quasi silenzioso, consente la realizzazione di riprese con discrezione nei luoghi più tranquilli. La funzione AF, che utilizza un segnale dal sensore d’immagine, consente una messa a fuoco di elevatissima precisione. Resistenza agli agenti atmosferici, alla polvere e operatività fino a -10°C Grazie alle 14 guarnizioni di cui è composto, l'obiettivo è resistente agli agenti atmosferici e alla polvere, ed è operativo a basse temperature fino a -10°C, rendendolo l’ideale complemento di X-T1 che vanta i medesimi livelli di protezione.
